瑞士 SAWATEC HP‑150 精密热板:光刻胶软烘与硬烘工艺专用烘烤设备
在黄光微纳光刻流程中,光刻胶软烘、硬烘是决定图形线宽、膜厚均匀性、附着力与工艺良率的核心热处理工序。瑞士SAWATECHP‑150精密热板专为光刻软烘、硬烘、曝光后烘烤、衬底脱水烘烤开发,适配6英寸晶圆及方形衬
北京汉达森机械技术有限公司
2026-10-29
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在黄光微纳光刻流程中,光刻胶软烘、硬烘是决定图形线宽、膜厚均匀性、附着力与工艺良率的核心热处理工序。瑞士SAWATECHP‑150精密热板专为光刻软烘、硬烘、曝光后烘烤、衬底脱水烘烤开发,适配6英寸晶圆及方形衬
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